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发布于 2026-05-28 / 0 阅读
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会议议题重磅发布 || 第二届先进光刻技术研讨会

第二届先进光刻技术研讨会

7月3日 上海

会议背景

在半导体技术飞速发展的当下,光刻技术作为芯片制造的核心环节,对推动产业进步起着关键作用。去年8月,首届先进光刻技术研讨会在苏州成功举办,众多行业专家、学者和企业代表齐聚一堂,共同探讨光刻技术的前沿趋势与挑战,取得了丰硕的成果,为光刻技术的发展注入了新的活力。

      如今,为进一步推动先进光刻技术的创新与应用,加强行业间的交流与合作,我们将于7月3日在上海举办第二届先进光刻技术研讨会。上海作为国内半导体产业的重要基地,拥有完善的产业生态和丰富的科研资源。本次会议将聚焦先进光刻等关键领域,邀请国内外顶尖专家分享最新研究成果,深入探讨光刻技术在先进制程中的应用与发展。我们期待与您共同把握行业脉搏,共绘半导体光刻技术的美好未来。

会议议题

《无掩模数字光刻机中的计量技术》
李世光,中科院微电子所研究员/江苏影速集成电路装备股份有限公司技术专家
《AI赋能的计算光刻技术》
马旭,北京理工大学 教授
《人工智能驱动的光刻仿真与DTCO》
曾维轩,张江实验室 副研究员
《双光子光刻的基本原理及双光子活性光引发剂的开发与应用》
金明,同济大学 教授
《基于同步辐射干涉光刻的极紫外光刻胶性能表征与工艺优化研究》
吴衍青中国科学院上海高等研究院 研究员
《题目准备中》
北京八亿时空液晶科技股份有限公司
《SUSS Scanner Technology for Advanced Packaging Application》
龚里,SUSS中国公司 总经理 
《题目准备中》
璞璘科技(杭州)有限公司 
《原子级制造尺度超高精度电子束光刻机》
周向前,百及纳米科技(上海)有限公司 博士
《国产高性能电子束曝光机的10nm突破》
中国电子科技集团公司第四十八研究所
《超精密基板加工工艺数据库与智能化之路》
杨伟,成都中科卓尔智能科技集团有限公司 董事长 
《高端紫外光学系统研制》
朱菁,上海镭灿光学有限公司 董事长
《先进光刻应用中的DUV光源技术》
刘天涯,杭州雷声激光科技有限公司 ceo/教授
《题目准备中》
肖畅,长飞石英技术(武汉)有限公司 销售副总监
。。。。。。
更多议题持续更新中,尽情期待!
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主办单位

半导体在线


时间和地点

时间:7月3日(7月2日签到)

地点:上海松江凯悦酒店(上海市松江区广富林路 599 弄 3 号)


会议议题

1、光刻材料与工艺研究

2、微纳图案化技术研究

3、半导体光刻材料与电子化学品

4、光刻掩模检测、计量及计算光刻技术研究

5、光刻新技术与新材料的基础研究

6、其他光刻相关技术与材料研究


会议形式

主要通过主题发言、现场讨论的形式,也欢迎材料企业、设备企业安排小型展览。为了共同办好这次会议, 热烈欢迎各企业、科研院所赞助本次会议,并借此机会提高知名度。


会议注册费用

会议注册费:(仅含会议期间提供午、晚餐及茶歇、会议资料)

账户信息

户 名:北京烯墨投资管理有限公司

开户行:中国工商银行股份有限公司北京百万庄支行

账 号:0200001409200080961

付款时注明:单位名称+参会人名

开票注意事项:

增值税普通发票请提供单位名称及税号。

如果需要增值税专用发票,请提供单位名称、税号、地址、电话、开户行、账号。接收邮箱:bandaotibj@163.com


住宿安排

会务组在会议酒店协商了房间,会议代表需自行与酒店联系住房预订事宜,费用自理。参会人员需尽快完成房间的预订,费用自理。

上海松江凯悦酒店,上海市松江区广富林路 599 弄 3 号。

协议价:单/标间 500元(含早)


组委会联系方式

参会、参展、宣传及赞助事宜

联系人:刘经理

联系电话:13521337845(微信同号)

联系人:秦经理

联系电话:18513072168(微信同号)


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