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全球光刻机市场呈现“一超多强”的格局。荷兰ASML凭借在高端EUV领域的绝对垄断，占据了技术与市场的制高点，2025年其市场份额高达85%，全年共出货约327台光刻机。
与此同时，以佳能、尼康为代表的日本厂商则聚焦成熟制程寻求差异化突破，而中国以上海微电子为代表的本土力量正在加速追赶，但技术代差接近10年。
全球光刻机厂商技术路线图：覆盖制程范围（截至2025年底）
ASML深化垄断：ASML将继续主导先进制程，其High-NA EUV光刻机是延续摩尔定律的关键，订单已排至2028年之后，技术壁垒极高。
日本双雄寻求差异化：在ASML的垄断下，佳能和尼康均出现不同程度的颓势。佳能正在通过投资新工厂和纳米压印技术寻求差异化突破，而尼康则陷入财务困境，计划押注中国市场以及中后道先进封装市场来改善业绩。
中国力量加速追赶：以上海微电子和宇量昇为代表的中国企业正加速前道光刻机技术攻关。除了在光刻机整机方面取得突破，在浸没式配套系统、光学组件，以及ArF光刻胶突破，中国企业也表现不俗，并有望在2026年迎来更高端DUV光刻机的突破。
全球光刻机市场的竞争，本质上是先进制程的垄断与成熟制程的争夺。ASML凭借EUV技术“一骑绝尘”，短期内其霸主地位难以撼动。
然而，在占据市场大部分需求的成熟制程领域，变局正在发生，以中国厂商为代表的新力量正持续挑战传统格局，竞争将日趋激烈。
文章来源：势银（TrendBank）
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