芯片制程越先进，对杂质的容忍度就越低。
当检测要求从 ppm （百万分之一）、 ppt （万亿分之一） 继 续向更低浓度推进， 超痕量金属检测能力， 正成为高端制造中的关键一环 。
2026 年， 聚光科技 自主孵化子公司谱育科技正式推出 EXPEC 7350S Plus 系列 三重四极杆 电感耦合等离子体质谱仪（ ICP-MS/MS ） 。
谱育科技三重四极杆电感耦合等离子体质谱仪（ ICP-MS/MS ）核心亮点
该产品依托 成熟 ICP-MS 技术平台 ，面向 半导体及高端制造 场景完成专项升级。
在关键硬件与软件体系自主可控的基础上，实现 sub-ppt级（十万亿分之一） 超 痕量检测能力。
可服务于 12 英寸晶圆先进制程相关表面金属离子检测等应用场景，为 半导体及高端制造领域 提供 更自主、更可靠 的检测解决方案。
良率的 “ 隐形杀手 ”
金属杂质必须被看见
半导体制造中，金属杂质直接影响良率。
随着集成电路持续迈向先进制程，对残留金属杂质控制水平的要求不断提高，相关检测能力已下探至sub-ppt级（十万亿分之一），部分场景甚至达到ppq级（千万亿分之一）。
检测能力不足，可能导致批量晶圆良率下降。长期以来，相关高端检测设备市场主要由海外厂商主导 。
EXPEC 7350S Plus 的推出， 体现了国产仪器在超痕量检测领域的进一步突破 。
EXPEC 7350S Plus 不是简单性能叠加，而是围绕半导体超痕量检测场景，对 自主可控、检测灵敏度、产线适配、定制响应 四项能力进行深度升级。
全自主可控：核心软硬件自研，安全更有保障
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降低 对国外 供应链与技术体系的依赖
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围绕 核心部件、关键零部件及软件体系 实现自主开发， 软件源代码 自主编写
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配备 智能水气防漏报警系统 ，实时监测运行参数，异常时自动预警并保护设备
进一步保障
设备运行安全
、
实验环境安全
与
数据安全
，
提升设备在关键行业
场景中的稳定应用能力。
sub-ppt级灵敏度：在十万亿分之一中精准“捕获”金属杂质
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搭载自主研发的 多次偏转离子传输系统 、 双提取透镜 与 新一代离子接口
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实现sub-ppt级超低检出限 ，在超痕量检测等关键性能指标上 具备国际同类产品竞争力
可服务于 12 英寸晶圆先进制程相关表面金属离子检测场景，有助于 支撑良率提升 。
VPD 全自动联用：从实验室到产线，检测流程无缝衔接
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支持与 国内外全自动 VPD 系统 （气相分解系统）一体化联用
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适配不同尺寸晶圆（ 8 英寸、 12 英寸）及多种衬底材料（硅、碳化硅等）
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提供 定制化自动化检测方案 ，实现 “ 取样 → 前处理 → 检测 → 报告 ” 全流程自动化
降低人为误差，提升检测通量，帮助客户从实验室检测向 自动化、高通量检测流程升级 ，更好 匹配量产节奏 。
敏捷响应本土需求： 更贴近国内应用场景
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更好适配 国产化替代 需求 ，持续提升落地效率
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依托自主研发实力， 快速响应 不同行业用户的实际应用需求
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更贴合本土应用场景 ，提供个性化合作分析方案
缩短问题响应周期，满足国内产线
快速的技术迭代
与
定制化需求
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用在哪里
半导体、高纯材料、高端制造
半导体 / 电子 ： 12 英寸晶圆表面金属离子分析、碳化硅片检测
高纯材料 ：超纯湿电子化学品、电子特气、高纯金属 溅射靶材 纯度分析
其他领域 ：各类超痕量元素分析及相关工业检测场景
当半导体制造持续迈向更先进工艺，分析检测设备早已不只是实验室工具，更是先进制造体系的重要支撑。
从关键硬件与软件体系自主开发，到
sub-ppt
级超痕量检测能力提升，再到面向
VPD
联用与产线流程的深度适配。
EXPEC 7350S Plus 系列三重四极杆 电感耦合等离子体质谱仪 （ ICP-MS/MS ） ，体现了 国产高端科学仪器 在 半导体关键检测 场景中的持续进阶。
聚光科技将持续深耕高端分析检测技术，依托 ICP-MS 系列的技术积累与产业化经验，为 半导体及高端制造 等 领域提供 更可靠、更自主、更高效 的分析检测解决方案。